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正確選擇低壓MOS管是很重要的一個環節，低壓MOS管選擇不好有可能影響到整個電路的效率和成本，了解不同的低壓MOS管部件的細微差別及不同開關電路中的應力能夠幫助工程師避免諸多問題，下面我們來學習下低壓MOS管的正確的選擇方法。
第一步：選用N溝道還是P溝道
為設計選擇正確器件的第一步是決定采用N溝道還是P溝道低壓MOS管。在典型的功率應用中，當一個低壓MOS管接地，而負載連接到干線電壓上時，該低壓MOS管就構成了低壓側開關。在低壓側開關中，應采用N溝道低壓MOS管，這是出于對關閉或導通器件所需電壓的考慮。當低壓MOS管連接到總線及負載接地時，就要用高壓側開關。通常會在這個拓撲中采用P溝道低壓MOS管，這也是出于對電壓驅動的考慮。
要選擇適合應用的器件，必須確定驅動器件所需的電壓，以及在設計中zui簡易執行的方法。下一步是確定所需的額定電壓，或者器件所能承受的zui大電壓。額定電壓越大，器件的成本就越高。根據實踐經驗，額定電壓應當大于干線電壓或總線電壓。這樣才能提供足夠的保護，使低壓MOS管不會失效。就選擇低壓MOS管而言，必須確定漏極至源極間可能承受的zui大電壓，即zui大VDS。知道低壓MOS管能承受的zui大電壓會隨溫度而變化這點十分重要。設計人員必須在整個工作溫度范圍內測試電壓的變化范圍。額定電壓必須有足夠的余量覆蓋這個變化范圍，確保電路不會失效。設計工程師需要考慮的其他安全因素包括由開關電子設備（如電機或變壓器）誘發的電壓瞬變。不同應用的額定電壓也有所不同；通常，便攜式設備為20V、FPGA電源為20～30V、85～220VAC應用為450～600V。
第二步：確定額定電流
第二步是選擇低壓MOS管的額定電流。視電路結構而定，該額定電流應是負載在所有情況下能夠承受的zui大電流。與電壓的情況相似，設計人員必須確保所選的低壓MOS管能承受這個額定電流，即使在系統產生尖峰電流時。兩個考慮的電流情況是連續模式和脈沖尖峰。在連續導通模式下，低壓MOS管處于穩態，此時電流連續通過器件。脈沖尖峰是指有大量電涌（或尖峰電流）流過器件。一旦確定了這些條件下的zui大電流，只需直接選擇能承受這個zui大電流的器件便可。
選好額定電流后，還必須計算導通損耗。在實際情況下，低壓MOS管并不是理想的器件，因為在導電過程中會有電能損耗，這稱之為導通損耗。低壓MOS管在“導通”時就像一個可變電阻，由器件的RDS（ON）所確定，并隨溫度而顯著變化。器件的功率耗損可由Iload2×RDS（ON）計算，由于導通電阻隨溫度變化，因此功率耗損也會隨之按比例變化。對MOS管施加的電壓VGS越高，RDS（ON）就會越小；反之RDS（ON）就會越高。對系統設計人員來說，這就是取決于系統電壓而需要折中權衡的地方。對便攜式設計來說，采用較低的電壓比較容易（較為普遍），而對于工業設計，可采用較高的電壓。注意RDS（ON）電阻會隨著電流輕微上升。關于RDS（ON）電阻的各種電氣參數變化可在制造商提供的技術資料表中查到。
需要提醒設計人員，一般來說低壓MOS管規格書標注的Id電流是低壓MOS管芯片的zui大常態電流，實際使用時的zui大常態電流還要受封裝的zui大電流限制。因此客戶設計產品時的zui大使用電流設定要考慮封裝的zui大電流限制。建議客戶設計產品時的zui大使用電流設定更重要的是要考慮低壓MOS的內阻參數。
技術對器件的特性有著重大影響，因為有些技術在提高zui大VDS時往往會使RDS（ON）增大。對于這樣的技術，如果打算降低VDS和RDS（ON），那么就得增加晶片尺寸，從而增加與之配套的封裝尺寸及相關的開發成本。業界現有好幾種試圖控制晶片尺寸增加的技術，其中zui主要的是溝道和電荷平衡技術。
在溝道技術中，晶片中嵌入了一個深溝，通常是為低電壓預留的，用于降低導通電阻RDS（ON）。為了減少zui大VDS對RDS（ON）的影響，開發過程中采用了外延生長柱/蝕刻柱工藝。例如，飛兆半導體開發了稱為SupeRFET的技術，針對RDS（ON）的降低而增加了額外的制造步驟。這種對RDS（ON）的關注十分重要，因為當標準MOSFET的擊穿電壓升高時，RDS（ON）會隨之呈指數級增加，并且導致晶片尺寸增大。SuperFET工藝將RDS（ON）與晶片尺寸間的指數關系變成了線性關系。這樣，SuperFET器件便可在小晶片尺寸，甚至在擊穿電壓達到600V的情況下，實現理想的低RDS（ON）。結果是晶片尺寸可減小達35%。而對于zui終用戶來說，這意味著封裝尺寸的大幅減小。
第三步：確定熱要求
選擇低壓MOS管的下一步是計算系統的散熱要求。設計人員必須考慮兩種不同的情況，即zui壞情況和真實情況。建議采用針對zui壞情況的計算結果，因為這個結果提供geng大的安全余量，能確保系統不會失效。在低壓MOS管的資料表上還有一些需要注意的測量數據；比如封裝器件的半導體結與環境之間的熱阻，以及zui大的結溫。
器件的結溫等于zui大環境溫度加上熱阻與功率耗散的乘積（結溫=zui大環境溫度+［熱阻×功率耗散］）。根據這個方程可解出系統的zui大功率耗散，即按定義相等于I2×RDS（ON）。由于設計人員已確定將要通過器件的zui大電流，因此可以計算出不同溫度下的RDS（ON）。值得注意的是，在處理簡單熱模型時，設計人員還必須考慮半導體結/器件外殼及外殼/環境的熱容量；即要求印刷電路板和封裝不會立即升溫。
雪崩擊穿是指半導體器件上的反向電壓chao過zui大值，并形成強電場使器件內電流增加。該電流將耗散功率，使器件的溫度升高，而且有可能損壞器件。半導體公司都會對器件進行雪崩測試，計算其雪崩電壓，或對器件的穩健性進行測試。計算額定雪崩電壓有兩種方法；一是統計法，另一是熱計算。而熱計算因為較為實用而得到廣泛采用。除計算外，技術對雪崩效應也有很大影響。例如，晶片尺寸的增加會提高抗雪崩能力，zui終提高器件的穩健性。對zui終用戶而言，這意味著要在系統中采用geng大的封裝件。
第四步：決定開關性能
選擇低壓MOS管的zui后一步是決定低壓MOS管的開關性能。影響開關性能的參數有很多，但zui重要的是柵極/漏極、柵極/ 源極及漏極/源極電容。這些電容會在器件中產生開關損耗，因為在每次開關時都要對它們充電。低壓MOS管的開關速度因此被降低，器件效率也下降。為計算開關過程中器件的總損耗，設計人員必須計算開通過程中的損耗（Eon）和關閉過程中的損耗（Eoff）。MOSFET開關的總功率可用如下方程表達：Psw=（Eon+Eoff）×開關頻率。而柵極電荷（Qgd）對開關性能的影響zui大。
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